摘要
在过去很长一段时间，业内都觉得很奇怪，在西方全方位半导体制裁的高压之下，俄罗斯微电子产业一度陷入“无芯片可用”的绝境，甚至传出从洗衣机、冰箱中拆取芯片用于军事装备的消息。 然而近期，俄罗斯传出自主研发的光刻机突破的消息，为其国防工业续上了关键的“生命线”。 要知道，俄罗斯几乎是与西方脱钩最彻底的大国，从2022年开始，西方对俄罗斯的半导体制裁几乎封死了所有正规通道。理论上，俄罗斯的军用电子系统应该在2023年就开始崩溃。 但那些盯着2纳米芯片的国家或许无法理解，俄罗斯却在持续的战争和制裁中保持了关键系统的运行，战场电子战系统丝毫不见“缺芯”的迹象。 他们忘了一件事：俄罗斯的战争体系，不是建立在西方标准上的。 正因为不依赖西方的技术体系，俄罗斯光刻机反而取得了突破。 根据业内半导体媒体传出的重磅消息，俄罗斯光刻机搞出“气体靶”新路子，350纳米刚刚准备量产，不少业内人士都开始重新审视全球半导体设备的发展格局。 我们知道，欧美搞光源用的是锡滴，俄罗斯直接掀桌子换赛道，选用全新研发路径，与西方竞争对手试图突破现有系统参数（例如从0.55提升至高数值孔径，甚至从0.75提升至超高数值孔径）不同，俄罗斯学派提出改变物理原理。 所谓“气体靶”方案，本质是绕开荷兰ASML的技术垄断，是用氙气、锂气这类气体团簇替代传统锡滴光源，通过特殊喷嘴被送入真空室。 在超音速喷射过程中，气体凝结成纳米级团簇，当受到强大的飞秒激光脉冲轰击时，每个团簇都会转化为温度高达数百万度的微等离子体。 与锡靶材的主要区别在于，气体不会沉积在光学元件上。锡蒸发后不可避免地会在镜面上凝结，需要复杂的净化系统。而气体只需用真空泵抽出即可。 此外，通过调节气体混合物的成分，可以控制发射波长。锂氙团簇被证明是6.7纳米波段的最佳选择，气体团簇光源可以在远低于数十亿美元EUV光刻机的设备上实现，完成短波长光源的技术落地测试。 尽管俄罗斯目前缺乏量产型光刻机，但这项技术跳过13.5纳米时代，直接进入6.7纳米时代，并有望过渡到软X射线光刻。 由于这套全新研发出来的光源设备，在实际运作过程里能够减少多余杂质产生，日常运行过程中需要的维护工序更少，整体使用成本也能得到有效控制。 这其实更像是被全面制裁逼出来的无奈选择。 他们现在能拿出手
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