玻璃基板产业化进展到哪了? 文章

36kr 资讯2026-05-30NEWSzh作者: 半导体产业纵横

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作者
半导体产业纵横
文章类型
NEWS
语言
zh
发布日期
2026-05-30

摘要

在关于玻璃基板的CSPTxITGV2026会议上,出现了一组令人振奋的数据:玻璃基板作为下一代先进封装核心材料,正迎来产业化加速期,全球市场规模从2024年14.8亿美元快速增长至2034年23.3亿美元,技术竞争日趋激烈,英特尔、三星、JOINT3联盟等布局加速。 但热闹之下,一线从业者却保持着清醒的克制。在与产业链企业的对谈中,我们听到了另一个版本的故事:主流工艺路线直到最近才收敛于“飞秒激光诱导+湿法刻蚀”,电镀填铜的一致性问题仍未完全解决,而一套完整的行业标准体系至今缺位。一名行业专家更是直言,玻璃基板的产业化应用至少在2030年以后。 玻璃基板的应用与落地,是一场关于设备、材料、工艺、标准与耐心的长跑。  01 为什么必须是玻璃? 玻璃基板为何被英伟达、AMD、Intel同时纳入下一代高性能封装路线图? 这主要是因为玻璃的物理性质: 第一,极低介电损耗。玻璃基板的Df值低至0.001-0.003(@10GHz),较传统FR-4有机基板降低10倍,可支持超过112Gbps的高速信号传输。在112Gbps/PAM4乃至下一代224Gbps的互连场景下,这是有机材料无法企及的物理极限。 第二,CTE与硅片极度匹配。玻璃的热膨胀系数(CTE)为3.0~8.0×10⁻⁶/K,与硅芯片(2.6×10⁻⁶/K)高度匹配,从根本上消除了热循环导致的焊点疲劳与分层失效——这是高端AI芯片在数千瓦功耗下长期稳定运行的前提。 第三,超高表面平整度。玻璃表面粗糙度小于0.1μm,是有机基板的1/50,可以确保微细线路(<5μm L/S)的高精度蚀刻与巨量转移的对位精度。 第四,高导热与耐热性。玻璃的热导率1.1-1.4 W/m·K,使用温度>500°C,完美承载高功率芯片散热需求,Tg值远超有机材料上限。当AI芯片的功耗和面积都触顶时,玻璃基板是唯一还能在物理层面提供增量的材料。 国际上,英特尔定位“技术整合者+生态构建者”,聚焦CPU、硅光模块及AI芯片封装,联合康宁、肖特、旭硝子推动生态建设,计划在2026-2030年实现大规模应用,并在IMAPS 2025上重申玻璃基板战略地位。

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